尼康宣布推出新一代5倍缩小的i-line步进式光刻机“NSR-2205iL1”，可用于制造功率、通信器件及MEMS器件等，并且完全兼容现有的尼康i-line曝光系统。据介绍，NSR-2205iL1分辨率≦350nm，曝光光源为i-line (365nm波长)，NA为0.45，*大曝光场22 mm x 22 mm。NSR-2205iL1将通过多点自动对焦（AF）、先进的晶圆台平整技术以及宽深度焦点范围（DOF）等多种优点，在高精度晶圆测量的基础上，为各种半导体制造过程提供高生产率，并优化产量水平。此外，由于其晶圆厚度和尺寸的兼容性、高晶圆翘曲容忍度以及灵活的功能（包括但不限于支持SiC（碳化硅）和GaN（氮化镓）加工），NSR-2205iL1 i-line光刻机适用于多种应用场景。今年以来荷兰、日本相继出台对华光刻机等半导体设备的限制措施，尼康已受到了影响。近日尼康公布的二季度业绩显示，二季度半导体用的光刻机仅卖出4台，而去年同期是8台；FPD用的光刻机卖了2台，去年同期是7台；整个2季度一共才卖出各种光刻机6台，下滑60%。
